溫度均勻性在光刻工藝中的烘烤固化過程中至關(guān)重要，它直接影響光刻膠的固化質(zhì)量和最終的圖案質(zhì)量。

溫度曲線控制對(duì)圖案質(zhì)量的影響

在光刻膠PI固化過程中，不同類型的光刻膠PI具有特定的固化溫度曲線，一般烤箱可預(yù)設(shè)溫度曲線，而不是不是線性加熱，精確控制升溫速率、保溫時(shí)間和降溫速率。以確保固化反應(yīng)均勻進(jìn)行，避免因溫度變化過快導(dǎo)致光刻膠內(nèi)部產(chǎn)生應(yīng)力，影響圖案質(zhì)量。

同時(shí)精準(zhǔn)的溫度控制可保證晶圓各部分受熱均勻，防止因局部過熱或過冷造成晶圓變形或內(nèi)部結(jié)構(gòu)損壞，從而提高晶圓的良品率。

溫度均勻性對(duì)固化質(zhì)量的影響

溫度均勻性對(duì)于光刻膠PI固化和半導(dǎo)體晶圓烘烤至關(guān)重要，因?yàn)闇囟炔痪鶆蚩赡軐?dǎo)致光刻膠固化程度不一致，影響光刻圖案的精度，以及使半導(dǎo)體晶圓內(nèi)部產(chǎn)生應(yīng)力，降低晶圓的電學(xué)性能和機(jī)械性能。

半導(dǎo)體制造工藝中，在真空無氧環(huán)境下均勻烘烤，光刻膠PI的固化反應(yīng)更加純凈、均勻，光刻圖案的邊緣清晰度和精度得到提升，從而有助于制造出更加精細(xì)、高性能的半導(dǎo)體器件。